二手 EVG / EV GROUP 620 #9216173 待售

EVG/EV GROUP 620是一种掩模对准器，用于半导体工业生产集成电路（IC）。它是一种激光微阵列工具，利用高分辨率相机将激光束引导到特定几何形状的掩模上。420毫米² X-Y级能够在制图过程中精确定位掩模,达到0.3 µm ±的最小对准精度。设备的旋转角度为± 7°,允许最大程度的处理灵活性。EVG 620具有VIRTUAL STAGE™ Control软件,它提供快速、用户友好的工作场所和易于使用的界面。它使用户能够使用所需的参数对激光进行编程,并有效地控制生产过程。软件还提供了一份全面的报告，详细说明了编程参数和系统信息，有助于监测设备的准确性和可重复性。EV GROUP 620使用波长为355 nm的先进风冷激光器运行。激光在掩模处反射，然后指向基板，在基板上定义显影模式。此过程将在两到三分钟内完成,具体取决于模式的类型和复杂性。620具有集成的synchronousXY扫描机，并为激光束和掩模提供高精度轨迹，确保精确的阵列。该单元采用了一种有趣的动态聚焦补偿技术，确保了全方位的最佳聚焦。它还具有独特的泵和过滤器在基板上.EVG/EV GROUP 620还为用户提供了一个智能配置工具，帮助生产大型IC。它装有一个在轴上的晶片卡盘，将晶片统一对齐。此外，基于棱镜的综合再聚焦资产最大限度地减少了对全球再聚焦操作的需求，并提高了生产率。EVG 620还具有激光自动对焦模型，在扫描过程中快速调整激光焦点，提高图样产量。此外，该装置能够处理各种不同的基板，并且经过优化，可以使用所有类型的抗蚀剂材料。总体而言，EV GROUP 620是一款高效、精确的掩模对齐器，允许用户以最小的大惊小怪产生复杂、错综复杂的模式。它是希望以高效可靠的方式生产详细半导体芯片和集成电路的用户的理想选择。