二手 EVG / EV GROUP 620 #9223622 待售
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EVG/EV GROUP 620是一种先进的掩模对准器，允许精确的光学光刻，具有大面积的均匀图桉。它能够加工尺寸可达500毫米x 500毫米的基板，设计目的是满足下一代光掩模市场的需求。该设备是基于一个工作单元的概念，使其高度通用和可靠。它配备了5种曝光模式，包括4场、半场、自动驾驶和全场扫描，以及一个专用的矫直机和旋转系统，用于精确对准。该平台配备了高分辨率的摄像机，可以对晶圆进行精确的视频成像和观察过程结果。EVG 620采用先进的光学单元，以确保高精度光刻，使用包括自动非球面扫描透镜和氟化物物镜在内的最先进的光学。该机进一步配备了专用的对准工具，允许高度自动化和可重复性。EV GROUP 620旨在简化蒙版生产的集成过程,利用自动化表面清洁、高级晶圆和蒙版识别例程以及多个过程控制功能等多种功能。它还允许使用各种面罩尺寸和基材。该资产还配备了集成晶圆处理程序，允许晶圆的自动交换，使其成为高通量生产的理想选择。此外,还可以定制软件以满足客户的特定要求。最终,620掩模对齐器提供了性能、灵活性和精确度的独特组合。它是生产复杂光掩模的强大工具，是光学光刻在微电子学、半导体和纳米技术研究中的理想应用。
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