二手 EVG / EV GROUP 620 #9224786 待售

EVG/EV GROUP 620系列掩模对准器是为高精度光掩模对准和光刻制造而设计的先进光刻系统。该设备能够在晶圆水平上以最小的温度变化产生极其精确的图像。EVG 620适用于包括过程控制和计量在内的一系列应用。它使用整体式LensScan 3D+视觉系统捕捉图像，并用其数码相机执行高级成像功能。这种成像技术高度精确，提供高达3.5微米的分辨率。对准器具有由伺服电动机驱动的高精度级，该级覆盖53mm x 53 mm的行进范围，可移动至25-4,000 mm/s之间，分辨率为0.02 mm。EV GROUP 620的自动对齐特性既可靠又强大。它具有0.7 μ m的高分辨率对准精度，可执行超快9µs模式对准。自动对齐功能还包括高级迭加和过程控制软件。该单元还包括一个专有的超精确光学失真校正模块，可实时运行。该模块与阻抗过程兼容，在阻抗过程中，梁控制对于解决最高级别的结构至关重要。620符合DRIE和ICP蚀刻以及Cleans、Oxides、CMP和Dopant等化学工艺。它能够进行单晶圆微掩模对准和过程控制，以及多掩模堆栈对准。EVG/EV Group 620的硬件实现了全自动运行,操作成本低,交付时间快。该机包括一个坚固的石墨平台和一个5英寸的"合一"功能的加工室。它还配备了快速配方转换和灵活的群集功能,以及可选的CD/CNS工具,用于多用户操作。总之，EVG 620是一种高度先进的掩模对齐器，符合精密光刻和工艺控制的所有标准。它具有先进的成像功能、可靠的自动对准特性、坚固的硬件和灵活的操作，是满足各种制造和计量需求的理想选择。