二手 EVG / EV GROUP 620 #9232815 待售

EVG/EV GROUP 620是一款适用于各种不同应用的半自动掩模对齐器。其工艺重复性精度为2.0微米，基板级精度为3.0微米。该机器采用模块化设计，可以在嵌入和非嵌入配置中操作。嵌入模式更适合一般的半导体晶圆处理，而非嵌入模式更适合高级掩蔽应用。它有一个专利的直接成像图样技术，称为"Singleexposure"，其结果是卓越的成像精度和高生产吞吐量。这使机器能够进行广泛的过程，从溅射和离子注入到光刻胶回流和多级金属化。EVG 620还具有全面的内置安全功能。其中包括检测掩模和晶片对准精度不一致的内置传感器，在对准偏离超过2微米时自动关闭光束，手动卸下掩模但自动对焦检测以减少操作员错误的可能性，以及光纤光束修整技术以最小的分辨率损失保持特征尺寸。EV GROUP 620具有软件用户界面,允许用户轻松配置机器的各个方面。这包括为特定的掩码和基板类型设置工艺配方,为多级阵列创建跟踪模板,以精确的像素精度将掩码与晶片对齐,为批处理过程编号创建可堆叠的跟踪列表,以及为每个应用程序调整曝光参数。软件还具有预配置的配置文件,使用户能够快速高效地快速设置批处理过程。机器提供了一个清洁室兼容的环境，温度范围为10-38°C，相对湿度为60%，确保不会对过程造成不必要的干扰。620还具有先进的精确对齐系统（APS）,可确保高度准确和可重复的对齐过程。这样可以确保所需的模式完全按照用户的规范进行注册。总体而言,EVG/EV GROUP 620是一种可靠和灵活的掩模对齐器,可提供高质量的结果,并具有一致的可重复性。其模块化设计和广泛的集成安全功能使其成为任何需要高精度屏蔽的生产环境的强大且理想的选择。