二手 EVG / EV GROUP 620 #9244743 待售

EVG/EV GROUP 620是一款用于半导体工业中高精度、高通量光刻应用的掩模对齐器。它是一种可靠、高性能的掩模对准器,配有集成的自动化掩模中心设备。该系统具有较高的对准精度和可重复性，以及对聚焦、压力和间隙等暴露参数的精细控制。EVG 620配备了5轴XYZ级运动单元和6轴显微镜级，以获得最佳的对准灵活性。两级真空卡盘还保证了基板在高分辨率加工过程中的稳定性。步进器可容纳高达200毫米的晶圆尺寸，是控制不同类型抗蚀剂的理想选择，包括涂层-受体组合。它的高功率UV照明器提供出色的曝光均匀性、重复性和光通量。其内置的曝光控制器允许绝对剂量控制从25mJ/cm2到500mJ/cm2与0.02mL的曝光精度。更有甚者，该机以坚固的铸铝结构为基础，保证了长期的稳定性和精度。该工具具有用户友好的图形界面以及直观的菜单和控制资产，使其简单易用。它还具有高级自动化功能,如具有居中功能的自动晶圆聚焦、自动标线对齐、自动过程校正以及执行不间断、多产品处理的能力。最后,EV GROUP 620配备了广泛的可自定义功能,例如3D映射模型、多掩码对齐、多腔室功能以及边到边性能。设备是满足光刻行业多样化需求的宝贵工具。