二手 EVG / EV GROUP 620 #9261506 待售
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已售出
ID: 9261506
晶圆大小: 6"
优质的: 2001
Mask aligner, 6"
Mask size: 3"-5"
Substrate size: 2"-4"
Lamp power: 13 mW/cm²
Cassette loader
Exposure mode: Time / Constant energy
Plating type:
Proximity
Soft contact
Hard contact
Vacuum contact (Vacuum chamber)
Alignment accuracy:
Top: 5µm
Bottom: 1µm
Theoretical resolution:
Soft contact: <2µm
Hard contact: 0.8µm to 1.5µm
Vacuum contact: 0.6µm
2001 vintage.
EVG/EV GROUP 620是一种用于纳米光刻、特别是光刻的掩模对齐器。它是一种半导体阵列仪器,能够精确地将线条和通孔等模式转移和对齐到基板上。EVG 620的主要部件是光柱、激光控制系统和晶圆级。Aligner EV GROUP 620的光学柱能够透过各种面罩和标线投射光线,用以将图桉转移到基板上。柱子上还装有光传递和继电器光学器件,如镀锌镜,它们在基板上移动光的图样。此外,它还包含引导激光束的精密级,以便精确对齐图样。Aligner 620的激光控制系统用于调整激光的功率、波长和曝光时间,以匹配所需的模式。系统还包含光学元件,例如多语言视区,以便用户在对齐模式时能够确保准确性。最后,Aligner EVG/EV GROUP 620的晶圆级负责基板的运动。这些阶段能够以高精度快速定位和定位基板,从而使图样能够正确和精确地对齐。EVG 620的行程范围延长,可重复性为1 µm,可实现出色的定位精度。总体而言,EV GROUP 620 Mask Aligner是一种可靠、精确的光刻制图仪器.利用其激光控制系统、光柱和晶片级,能够快速有效地将图样转移和对准基板。
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