二手 EVG / EV GROUP 620 #9268449 待售

EVG/EV GROUP 620是为精密光刻设计的最先进的掩模对准器。它具有先进的自动化、亚微米对准精度和较大的覆盖区域。此设备具有4英寸（10厘米）全场扫描仪,可提供最大吞吐量,每小时最多可执行500次操作。获得专利的垂直机器对齐（VMA）功能可确保平坦平面,即使在具有较大地形表面差异的结构上也能实现前所未有的直接写入和迭加性能。该系统具有高度模块化和可扩展性,允许针对用户的特定需求定制一系列配置。它可以通过简单的图形用户界面操作，也可以通过提供更高吞吐量和自动化的嵌入式计算机网络操作。EVG 620有两个主要组件：一个用于对齐器的主框架,以及一个用于实现设备与上下级扫描仪之间快速数据传输的转导电子封装。其基于执行器的光学机器确保了面罩印章与晶片的快速精确对准。该工具将可编程光束扫描仪级与嵌入式激光干涉仪资产集成在一起，以实现亚微米对准精度。EV GROUP 620可用于在掩码和晶片上放置覆盖标记,以及创建直接写入层。对于直接写入过程，模型可以提供可变曝光级别。它与广泛的材料兼容，包括光致抗蚀剂、氧化物和氮化物。该设备采用严格的质量控制标准制造，符合所有主要半导体铸造厂的要求。它是精密光刻的可靠、经济高效的解决方桉。