二手 EVG / EV GROUP 620 #9276216 待售

EVG/EV GROUP 620是为光刻应用而设计的掩模对准设备。它被用于创建和印刷微电子元件的过程中，例如集成电路。该系统能够打印小至10 nm的特征大小。该单位由两个主要组成部分组成；对齐器和掩码处理器。Aligner有一个大的X-Y电动级和投影仪投影模式到光刻涂层的基板如硅片。Mask Processor包括一个可旋转的6轴机器人手臂、一个气体输送机、一个过程气体监视器以及一个可容纳多达25个不同的口罩和5个基板的口罩存储和装载工具。资产的对准精度高，平均对准误差为1.2um或更低，并采用光学滤镜模型以确保均匀曝光。Aligner还配备了内置真空设备，用于在面罩对准时增加精度，这也有助于降低空气敏感性。该系统设计为用户友好,具有控制软件,可让用户轻松设计、修改或创建口罩,从而能够精确打印基板两侧的图样。它还包括一个真空单元，允许更有效的清洁和烘烤基板。EVG 620有广泛的应用，从基本图样打印到微元件的3D打印，以及用于高级电路制造的热和电子束光刻。其高精度、灵活性和用户友好的控制软件意味着它适用于研究和教育项目，以及工业层面的原型设计。它的结构还可以方便地与其他设备集成，例如真空容器，以便更好的过程控制。