二手 EVG / EV GROUP 620 #9283060 待售
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已售出
ID: 9283060
优质的: 2008
Mask aligner
Precision alignment, 6"
Double side lithography
Topside alignment (TSA)
Bottomside alignment (BSA)
Cassette to cassette handling
(4) Objectives: 10x
GENMARK 4S Robots with pre-aligner
Motorized alignment stage (x, y, theta directions) to the 3-Axis joystick
Microsoft based user interface
Spare parts included
No Manuals
Power requirements:
Power supply: 208 V, Single phase
Frequency: 50/60 Hz
Power consumption: 1.8 kW
Air supply:
CDA: 6 bar / 87 psi
Nitrogen source: 6 bar / 87 psi
Vacuum: <850 mbar / 646 Torr
2008 vintage.
EVG/EV GROUP 620是一种掩模对准器,设计用于产生纳米级精度的结构。它是一种通用工具,设计用于产生异构、单层或多层材料结构和图样。该机采用光刻技术,并在纳米精度的晶圆微结构的对准和测量方面取得了新的进展。EVG 620具有极其精确的特点,旨在确保一致的高性能焊接、图案和蚀刻。该装置包括高分辨率对准和纳米级精度在结构和图桉的放置。步进器包括CCD相机,用于测量对准、z位置和结构位置。这样就可以精确可靠地调整最终产品中产生的必要模式。EV GROUP 620是通过蒸发蒸发产生纳米级结构极高分辨率图像的理想选择。该装置利用蒸发技术对纳米和亚微米特征尺寸所需的分子级材料进行精确汽化。步进器还使用专门的闭环自动对齐技术。这意味着步进器不断进行校正,以确保掩模和基片之间的对齐。这样可以提高最终产品的准确性。此外,620还包括一个预对齐和后对齐功能,可确保在此过程中掩模和晶片之间的对齐不受干扰。预对齐阶段在曝光前对齐掩模,后对齐有助于改善与晶片的对齐。EVG/EV GROUP 620配备了先进的正面和边缘曝光器,以确保图桉正确暴露。步进器还包括诸如Auto Focus和Polarization等有助于提高图桉精度的功能。EVG 620提供了广泛的等离子体蚀刻选项,可以帮助产生高精度的纳米图样。它有氦气等离子体工艺、氙气等离子体工艺、氧气等离子体工艺等选项。等离子体蚀刻图样具有很高的可靠性,可用于制造复杂的材料微结构。该设备对用户友好,并附带用于控制设备的用户友好的ATC软件。此软件可轻松控制、监控和操作设备。它还包括自动参数调整、曲线拟合、统计分析和内置数据库等工具。EV GROUP 620也有能力产生长宽比极高的图桉。它还被设计用于所有类型的档桉材料,包括金属、玻璃、聚合物树脂和陶瓷层。620是创建精确可靠的纳米级结构和模式的不可或缺的工具。它是一种通用设备,可确保最终产品达到最高标准。
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