二手 EVG / EV GROUP 620 #9392780 待售

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製造商
EVG / EV GROUP
模型
620
ID: 9392780
Mask aligner.
EVG/EV GROUP 620,又称掩模对准器,是为精密光刻而设计的最先进的设备。可用于多种应用,如图像修复、层传输、接触和非接触成像、图像传输等。EVG 620有一个先进的光学观察系统,允许操作员实时查看整个曝光场。它还提供了旨在提高生产率和降低成本的先进NGS (Next Generation Stepper)技术。NGS技术具有自动对齐控制功能,可实现最佳的注册准确性,以及快速转换和节省高达40%的时间。它还设计用于短曝光和长曝光,以生成高分辨率图像。EV GROUP 620配备露天板功能,有助于在整个曝光周期内保持一致的温度。它还可以提供高精度对齐点,可重复性为+/-0.1微米或更高。这确保了从0.5微米到5.5微米的各种工艺的暴露精度。620具有高精度的舞台运动模组,提供超平滑的运动,速度为21毫米/秒。它还具有一个精密的热成像单元,提供精确的温度控制,最大限度地减少热波动。它还有一个先进的真空机,为接触应用提供高精度的薄膜附着力和高强度的压力。高度自动化的EVG/EV GROUP 620提供了用户友好的图形用户界面(GUI)。这允许用户选择诸如曝光-点放置、剂量-点调整和框架切割等功能。它还提供了一个可用于自定义掩码的预定义掩码库。EVG 620还配备了两个内置系统-一个热工具和一个压力/真空资产。该热模型旨在确保在暴露过程中的完全热均匀性,而压力/真空设备则提供精确的接触压力和精确的真空控制。该系统还具有特定于应用程序的软件套件,该套件具有强大的、易于使用的自定义脚本编程语言。EV GROUP 620蒙版对准器是一种通用、高效的精密光刻设备。它提供了高级功能,如自动对准控制、温度控制和平滑的舞台移动。它具有广泛的曝光精度,确保了接触和非接触成像过程的高精度。
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