二手 EVG / EV GROUP 620 #9402233 待售
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ID: 9402233
优质的: 2004
Mask aligner
Plug type:
US 5 Nema L 21-30 Plug, Wire length 1.8m
Europe: CEE7 European plug
Japan US 5 NEMA L‐ 21-30 plug, wire length 1.8m
Tube slzes:
Compressed airi nitrogen and vacuum
Compressed air: 6 Barr (87 Psi). dried and filtered
701/h FIow rate
Nitrogen / Compressed air (Dried, cleaned):
501/h Flow rate
Vacuum: 850 mbar (640 Torr)
Power recuirements 400W
Voitage:
Japan system: 200 V, 50/60 Hz, Single phases, 3 Wire system
US System: 208 V, 50/60 Hz, Single phase, 3 Wire svstem
European system 230 V, 50/60 Hz, Single phase, 3 Wire system
2004 vintage.
EVG/EV GROUP 620是一种全自动掩模对准设备，设计用于处理半导体器件晶圆的制造。它利用各种行业标准基材和接触源来提供反应迅速的对齐结果。该系统能够实现0.1微米的分辨率，可重复性在1微米以内。EVG 620的高精度光学、机动化晶片级、集成软件使设置和控制曝光过程直截了当、高效。对齐器的曝光源效率很高，使得设备能够快速准确地运行各种作业。对齐器的用户友好软件有助于简化作业设置方法,并允许用户监视每个作业的进度。该单元由几个集成组件组成，包括一台计算机控制的蒙版曝光机、一个电动晶片级、一个先进的电机驱动工具和一个曝光灯。曝光灯用于产生短波长曝光光，确保最大分辨率和重复性。机动化晶片级用于精确控制晶片的运动和曝光位置。最后，集成的提前电机驱动资产允许用户控制曝光过程的速度和方向。EV GROUP 620旨在满足半导体制造商的需求，为他们提供一个高效、经济高效的面罩对准/曝光任务工具。该模型的直观软件还确保了易用性和高效的作业设置,使操作员能够监控过程并保持高精度和精确度。对齐器的坚固结构和自动化操作使其成为那些寻找可靠、快节奏曝光设备的人的理想解决方桉。
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