二手 EVG / EV GROUP 6200 #9223335 待售
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已售出
ID: 9223335
晶圆大小: 8"
优质的: 2006
Mask aligners, 8"
Manual wafer load mask aligner (TSA+BIR)
With mask holder: 9”x 9”
Exposure mode: Soft contact / Hard contact / Vacuum contact
Lamp house: 1000 W
Range of alignment: X, Y: +/- 5 mm
Rotation: Theta +/- 3.5°
Actuated by analog 3 axes joystick
Resolution: 0.06 μm
Movements: Motorized
Alignment accuracy:
Top side alignment: 0.5 μm (With 20x objective)
Top to bottom side alignment: 1 μm (With 20x objective)
2110C2-E Radiation power system
Anti vibration table: 1000 W
User interface: Microsoft Windows based
Monitor screen
System PC
Keyboard
Cables
Joysticks
UPS
Operations manual
2006 vintage.
EVG/EV GROUP 6200蒙版对准器是一种高度先进的光刻和薄膜对准过程工具，用于制造MEMS、半导体和平板显示器件。该设备旨在实现x、y和z轴的精确移动,以实现掩模（或模型）和基板层的最佳对齐。EVG 6200蒙版对准器具有平面内和平面外对准能力，定位精度为每轴0.5µm。此外，它还具有高分辨率的摄像头系统，具有对齐点和节点识别的精确位置。它还与标准现成的光学器件和直径可达110mm的真空卡盘兼容。符合人体工程学设计的集成工作站包括片上处理、高速异步控制和高级用户界面。所有组件都集成在一个集成的工业级铝制外壳中,并位于无振动空气支架之上,以实现无与伦比的稳定性。本机设计具有自动校准功能，可简化操作，确保重复精度和产品均匀性。此外,它还包括允许可变曝光调整和配置文件的自动曝光功能。为了提高生产效率,它结合了高性能的手动索引表和操作状态通知,以确保高效的设备处理。通过直观的图形用户界面，EV GROUP 6200掩码对齐器可以轻松配置，以符合客户的特定应用要求。6200面膜对齐器可使基板与图样精确对齐,减少线宽和特征不对齐。其高度精确的位置和旋转反馈机保证最小的对齐误差，以提供所需的打印。该工具兼容各种热塑性塑料、低导热材料，以及用于印刷垫和通风瓶的金属，精度高。此外，这一工具能效很高，有助于减少能源费用和保持环境质量。
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