二手 EVG / EV GROUP 6200 #9296383 待售

EVG/EV GROUP 6200是一种蒙版对齐器，旨在方便晶圆级光刻。这种精密工具用于半导体工业的光掩模制造和其他相关工艺。EVG 6200采用最先进的高分辨率光学成像设备和新颖的对准算法，能够在晶圆上产生高精度图样。该装置配有一个6英寸（152.4毫米）的工作站，支持一系列尺寸可达12英寸（304.8毫米）的晶片。它具有独特的光学设计，标称分辨率为0.6微米，允许更高的对准精度。根据使用的模式，刀具的对准精度可以达到± 0.01微米的公差。EV GROUP 6200的最大自动对准速度达到3200微米/秒,提供可靠、快速的对准过程。这将提高生产效率,同时仍能取得预期的效果。6200采用高度模块化的平台设计,允许开放的体系结构环境。这使用户能够使用自己的旋转、索引和晶圆处理组件自定义系统。这种定制进一步增强了单位在专门任务中表现出色的能力。在操作方面,机器配备了直观的图形用户界面（GUI）,用户可以快速完成从晶圆放置到对齐和后对齐操作的各种过程。GUI显示了一个全面的流程流程图,使用户可以轻松地监视流程。该工具提供各种支持，包括薄膜框架支持、晶片框架支持和金属框架支持。金属框架支撑的设计是为了防止在装载和卸载基板时发生滑动，为掩模对准器提供一个稳定和安全的环境。总体而言,EVG/EV GROUP 6200是一款精密的掩码对齐器,能够提供卓越的精度和精确的结果。其尖端技术、模块化平台和用户友好界面确保用户能够以安全可靠的方式快速有效地完成高精度流程。