二手 EVG / EV GROUP 6200TBR #9028178 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

製造商
EVG / EV GROUP
模型
6200TBR
ID: 9028178
Double sided mask aligner Topside and bottomside microscopes Auto load with (3) cassette stations Cognex Patmax vision system with auto alignment capability Nanoalign package Standard and high bow chucks 6" wafer chuck vacuum contact 6" wafer chuck for warped wafers plus proximity pins 8" wafer chuck vacuum contact 8" wafer chuck for warped wafers with proximity pins Mask holders and loading frames for 7" masks Mask holders and loading frames for 9" masks UV meter Currently installed.
EVG/EV GROUP 6200TBR是一种掩模对准设备,设计用于精确对准基板和掩模,以准备后续的光刻工艺。它有助于迭加对齐精度以及步进和重复步进对齐,使其成为晶片级和面板级成像的理想选择。EVG 6200TBR提供先进的光刻功能,非常适合制造符合标准的光学设备。该系统支持5倍、10倍和20倍放大倍率的光阻。它还包括一个内置的低温级和4 μ m的分辨率,用于在晶圆级对齐特征。EV GROUP 6200TBR具有高精度的机动化级,可实现晶圆级对准任务的最佳精度。该单元的用户友好型设计使其易于使用,而其自检机器则确保了可靠的性能。它配备了6.5英寸液晶显示器和智能、自动化的功能,便于图像检查。此外,6200TBR还提供集成的光束对准、晶片加载、自动聚焦和曝光控制功能,以及先进的扫描技术,以确保可靠的成像。EVG/EV GROUP 6200TBR的设计考虑到安全性,其特点是板载安全工具可防止基板过度暴露于辐射。该资产还确保辐射在整个给定的光刻操作过程中保持在安全水平。此外,EVG 6200TBR还有一个可选的集成平台,允许用户确保污染预防和环境控制。EV GROUP 6200TBR是一种灵活可靠的口罩对准选择.它提供高级功能、准确性、安全性和易用性。通过利用先进的成像技术,6200TBR确保所有处理步骤都正确对齐,以产生最佳的照片照片效果。
还没有评论