二手 EVG / EV GROUP 620TBR #9207968 待售
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ID: 9207968
晶圆大小: 6"
优质的: 2002
Automated mask aligner, 6"
Topside alignment (TSA)
Bottom side alignment (BSA)
Automatic alignment
(3) Cassette station ergo load cassette station
Cassette to cassette handling (can also be operated in manual mode)
Up to 6" wafer capable
Can be operated in proximity, soft contact, hard contact / Vacuum contact exposure modes
Exposure optics: Type C, 350 nm - 450 nm, broadband
Lamphouse: 500 W
Motorized alignment stage (x, y, theta directions) to the 3-Axis joystick
Microsoft windows based user interface
System PC, keyboard, cables
Operations manual for EVG 620
2002 vintage.
EVG/EV GROUP 620TBR Mask Aligner是一种高级设备,专为高分辨率的mask对齐和阵列设计。它是一种基于晶片的全自动设备，在简化复杂模式生成过程的同时提供精确度和准确性。EVG 620TBR在整个晶圆区域内提供非常高的对准精度，循环时间从秒到分钟不等。该机还能够产生高分辨率图样的高产效果。EV GROUP 620TBR配备了先进的技术，使用户能够将不同的模式准确定位和曝光到单个晶圆上。它有一个高分辨率的光学对准系统和一个蒸发曝光单元，它使用扫描透镜来调整投射到晶圆上的图样的大小和形状。620TBR设计用于处理多种基材类型,包括工业膜、偏振器元件、X射线掩模元件和其他薄膜材料。该机还能够以高精度自动将多个基板彼此对齐。EVG/EV GROUP 620TBR利用高级控制机器提供用户定义的对齐参数并提供对齐结果的反馈。可以使用工具的基于软件的数据存储资产单独监控每个晶圆。机器还允许用户设置批处理，这使得多个晶片的阵列具有一致的结果和减少的时间需求。EVG 620TBR具有许多安全功能,例如锁定晶片夹的能力和紧急停止按钮,用户可以在紧急情况下快速停止任何操作。此外，该装置还配备了一系列安全传感器，可主动监测环境，确保避免任何危险情况。EV GROUP 620TBR Mask Aligner是各种应用的理想工具，从纳米光刻到微电子。除了精度和速度外，其人性化的界面和安全特性使这台机器成为商业、工业和学术研究的高效可靠的选择。
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