二手 EVG / EV GROUP 640 #293689618 待售
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EVG/EV GROUP 640是为微米和亚微米半导体结构精密印刷而设计的掩模对齐器。它是一种光学光刻工具，用于将图样从标线转移到晶圆上。对于诸如DRAM、逻辑和溷合信号设计等复杂结构,它非常适合打印深亚微米（DSM）功能。EVG 640是一种全场对齐器，分辨率为0.5 μ m，覆盖精度为0.25 μ m。刀具的全局覆盖范围为+/2 μ m,局部覆盖范围为+/1 μ m。EV GROUP 640采用自上而下的投影设备设计，赋予其广泛的特性和功能。该工具可以在4倍、5倍或6倍激光还原时打印1层至30层的标线。其激光光斑大小为0.3 μ m，磁场大小为16 "× 16"，晶圆大小为14 "× 14"。该工具还同时配备了Micro@@-Wall和White@@-Wall成像技术，在整个晶圆上提供高度的聚焦均匀性。此外,该工具的系统配置具有高度的灵活性。可以对其进行校准,以确保较高的流程可重复性和可重复性,并针对不同的需求提供各种曝光选项。640易于操作维护。它具有智能操作员界面显示功能，允许用户监控设备性能并设置参数和调整曝光。该工具还设计了一系列安全功能，以尽量减少接触危险和减少污染的可能性。总体而言，EVG/EV GROUP 640是一种先进的光学光刻工具，提供微米和亚微米结构的精密印刷。它非常适合DRAM、逻辑和溷合信号设计,在机器配置方面具有极大的灵活性。该工具易于操作和维护,并具有一系列安全功能,以确保质量和准确性。
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