二手 EVG / EV GROUP 640 #293771584 待售

製造商
EVG / EV GROUP
模型
640
ID: 293771584
晶圆大小: 4"-8"
Mask aligner, 4"-8" BSA Non functional robot module Backside alignment Joystick Operating system: Windows 2000 UV LED Light intensity: 365 nm 45 mW / cm2 405 nm 55 mW / cm2.
EVG/EV GROUP 640是一种通用的掩模对准器,广泛用于半导体工业中的光刻工艺。这种精密工具在半导体器件的生产中起着至关重要的作用,因为它能够对硅晶片上的光刻胶进行精确的制图。EVG 640专为处理各种尺寸达200毫米的基材而设计,使其成为研究和生产环境的热门选择。EV Group 640的一个关键特点是其高度自动化和精确度。设备配备了先进的对准和曝光能力,使用户可以实现亚微米对准精度。这对于实现现代半导体制造工艺所需的紧密公差至关重要。640还提供了基材材料的多功能性,使用户可以使用包括硅、玻璃和复合半导体在内的多种材料。遮罩对准器根据光刻原理工作,这包括将图样从光掩模转移到涂有光刻胶的基板上。EVG/EV GROUP 640使用准直的UV光源来暴露光抗蚀剂,确保在基板上均匀且精确的图桉。该系统能够处理近距离和接触曝光模式,使用户能够灵活选择最适合其特定应用的模式。EVG 640除了具有对齐和曝光功能外,还配备了提高生产力和易用性的功能。该单元带有一个用户友好的界面,可以方便地编程和控制对齐和曝光参数。它还包括用于自动调整和暴露过程的高级软件功能,从而减少了手动干预的需要,并提高了总体吞吐量。EV GROUP 640的关键优点之一是模块化和灵活性。该机器可以轻松配置,以满足不同应用程序的特定要求,使其成为广泛研究和生产环境的通用工具。用户可以从各种可选模块和附件中进行选择,以定制工具以满足其独特的需求。总体而言,640掩模对准器是半导体行业中用于高精度光刻工艺的强大工具。EVG/EV GROUP 640具有先进的对准和曝光能力,在处理各种基板材料方面具有多功能性,而且界面友好,对于希望在200 mm尺寸的基板上实现精确阵列的半导体制造商和研究人员来说,EVG/EV GROUP 640是一项宝贵的资产。它的自动化特性和模块化使得它成为一种用途广泛的工具,可以适应广泛的应用,使其成为业界流行的选择。
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