二手 EVG / EV GROUP 640 #9200558 待售
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ID: 9200558
Spare parts
Robot controller
Mercury lamp power supply
Shutter
Fly eye
Mirror
Lithography robot 2 (1 belongs to the 2nd machine, a spare part)
Photo lithograph bottom microscope
Mask holder
Lithography mirror and board
Pneumatic bar
Image acquisition
Control module
Cable.
EVG/EV GROUP 640是一种先进的用于微电子制造技术的掩模对准器。它用于光刻工艺，如在半导体晶片和玻璃基板上暴露接触细节和其他图样。EVG 640适合于对准和暴露多种基材，并有不同的分辨率要求。它是多功能的，既可以执行减法和加法过程，也可以执行多步处理。EV GROUP 640可实现低至0.12 µm的分辨率精度，非常适合生产小型半导体芯片，如DRAM和SRAM。它还可以高精度地暴露大面积。这使得对齐器非常适合各种尺寸和形状，包括不同尺寸和精确图桉的颠簸和通风。其均匀的对齐、曝光质量和长寿命使其在生产运行中具有很高的可靠性。对齐器包括一个自动、集成的对齐系统，使用模式识别技术来捕捉暴露的模式。对准系统结合了先进的引导定位技术和各种不同的梁偏转技术，提供精确一致的对准。透明的基板支架还可以使复杂的地形对准先进的工艺。640以低成本提供最大吞吐量。快速曝光和易于使用的软件简化了操作,使用户能够专注于开发和优化其产品设计。它还提供了一个用于定制的模块化平台，可以针对特定应用进行定制。此外，EVG/EV GROUP 640配备了一系列先进的安全特性。这包括一个先进的安全系统,可防止未经授权的访问和篡改,以及监视和控制功能,提供有关不当操作和潜在不安全情况的及时警告和警报。总体而言，EVG 640是一款功能强大且用途广泛的口罩对齐器，适合广泛的生产需求。它提供高精度、刚性可重复性和坚固的安全特性,使其成为寻求可靠和高效光刻工艺的用户的理想选择。
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