二手 EVG / EV GROUP 640 #9210352 待售

EVG/EV GROUP 640是一种掩模对准器，是一种广泛使用的用于制造各种半导体器件和先进光子器件的高精度光刻设备。经过优化，为生产和半导体器件制造提供了高模型保真度、高通量和精确对准。该系统采用5纳米分辨率对准和5纳米步长，并采用感应基板位移的反馈单元和精细运动阶段进一步改进，以提供精确的对准精度和可重复性。该机具有先进的计量能力，提供了改进的工艺性能，这意味着芯片设计者能够最大限度地提高芯片性能。该工具允许广泛的芯片尺寸和封装配置，以及各种各样的对准目标，如接触、交错、堆迭和多晶圆技术。此外,资产还可以处理非平面形状,如圆形、椭圆形和其他形状,以及经典的"U"（垂直侧壁）形状。EVG 640的曝光时间比其他传统光刻系统快，通常只需要10至20毫秒。该模型可以检测到亚纳米失真，并能够实现高分辨率和对准精度。设备的光学元件也被设计成在减少幽灵成像的同时最大限度地减少耀斑。该系统配备了提供快速基板载荷的快速载荷对准级，并包括了长寿命投影镜头。该单元还包括一个高度先进的软件包和一个功能强大的图形用户界面（GUI），便于机器的设置和控制。此GUI易于使用,并提供了许多功能,例如自动优化曝光设置和自动对焦校准。该软件包还提供了广泛的精确模式模拟功能。EV GROUP 640是先进光刻应用在研发和生产中的理想选择。凭借其稳健的设计、优异的性能、高品质的成绩，多次入围各项大奖。