二手 HTG 36-3 #69873 待售

HTG 36-3是为方便接触光刻而设计的掩模对准设备。它是由曝光工具、开发工具和抛光与对齐工具（PAT）组成的三阶段系统。"曝光工具"旨在将蒙版暴露在晶圆表面上。它的工作原理是用1-kW的Xe灯以36度的固定角度扫描掩模，其输出聚焦到晶圆上的13微米点。然后开发工具使用高度选择性的显影剂在晶片上形成所需的模式。开发溶液的pH值是可调的，以达到所需的选择性，并由流量高达每分钟2毫升的Autosyringe单元输送。该工具还具有进气和排气空调机，和一个热板，以保持开发解决方桉的温度。抛光和对齐工具（PAT）用于细化和对齐由曝光工具和开发工具形成的图桉。它配有两个光学头，用于两个对准系统。PAT具有一个可加热的工作阶段、一个受控厚度的基板表和一个用于图像观测的CCD相机。它还利用激光干涉仪和数控控制器，精确定位面罩相对于基板。此外，PAT具有抛光功能，允许它去除不希望的颗粒或氧化层，以确保更平滑的图样。总而言之，36-3是一种可靠、高效的掩模对准工具，能够在硅片上形成复杂的图样。它对各种需要精确对准电路模式的微电子器件制造商是有利的。