二手JEC / JAPAN ENGINEERING COMPANY(光刻机)待售

由JEC（日本工程公司）製造的掩模对准器，以其在半导体光刻领域的高品质和可靠性能而闻名。这些掩模对准器利用先进的技术和精密的工程，将光刻胶精确对准并暴露在晶片上，从而为微芯片生产提供精确的图样。与竞争对手相比,JEC掩模对齐器具有多种优势。首先，它们提供了极好的对齐精度，能够创建复杂的高分辨率模式。它们还提供了亚微米对齐方面的灵活性,允许跨各个行业的通用应用。JEC的面罩对齐器系列的一个例子是MA-2400，它是为研发目的而设计的。该型号提供卓越的光学分辨率和对准精度,适用于小型制造和原型设计。它提供自动对准和曝光功能，简化光刻工艺，提高效率。JEC的另一个值得注意的口罩对齐器是MA-6，这是教育机构和小规模生产线的理想的紧凑且价格合理的模型。它提供了简单的操作和维护，使它适合初学者或那些有限的光刻经验。尽管MA-6尺寸小巧,但仍能提供可靠的对准精度和分辨率。总体而言,JEC掩模对齐器提供了多种选项来满足各种光刻要求。它们提供高性能功能和用户友好的界面,使其适合半导体制造领域经验丰富的专业人员和初学者。