二手 KARL SUSS / MICROTEC BA 6 #9363766 待售

KARL SUSS/MICROTEC BA 6是一种用于半导体产品制造中光刻的前沿掩模对齐器。这种对齐器是一种小巧、尺寸高效的光刻仪器，适用于较小和复杂的芯片布局工艺或更高分辨率的晶圆制造工艺。掩模对准器的工作原理是，首先将晶片布局的大小设置为暴露，然后将精磨的石英玻璃抗性材料施加到晶片表面。然后将石英玻璃抗蚀剂暴露在波长为193nm的0.2微米的紫外线通带中，同时将掩模移近芯片表面。然后，掩模对准器利用其先进的定位和光束偏转系统在芯片上移动掩模。利用稳定的激光控制器和高分辨率的直线电动机使掩模的精确定位成为可能，而光束偏转确保紫外线在芯片布局的所有区域的均匀应用。MICROTEC BA 6对齐器还提供高达1.0um的高曝光精度,由于对芯片布局结构的大小提供了控制,因此可以实现更高的层对齐精度。这种对齐器还能够扫描高达1000Hz的频率，这使得它适用于高通量制造掩模。此外，它还配备了电动变焦光学器件和瑞利激光干涉仪，以提高曝光精度。KARL SUSS BA 6还包含了一系列旨在促进生产过程的高级功能。这些功能包括基于PLC的自动化作业表、六轴对齐系统以及用于完成层的压花功能。此外,此对齐器还配有一个功能强大的计算机软件程序,该程序提供对芯片布局的详细分析,然后由技术人员使用,以方便整个布局和对齐过程。总体而言，BA 6掩模对齐器是一种用于半导体芯片生产的最先进的光刻工具。它将高端定位和紫外线曝光功能与许多高级功能结合在一起，以便于高效、准确地生产半导体器件。高精度的光束偏转也允许芯片布局的精确对准，而其高通量的1000Hz使其适合商业使用。