二手 KARL SUSS / MICROTEC BA 8 #9382268 待售

KARL SUSS/MICROTEC BA 8是一种用于半导体器件制造的自动、高精度、用户友好的掩模对齐器。它针对各种光刻应用进行了优化，如薄膜的精确图样、抗掩蔽和晶片图样。MICROTEC BA 8具有先进的功能和高效的工作模式,为快速、精确的光刻处理提供了理想的平台。KARL SUSS BA 8由多个部件组成，包括6轴对准头、自动晶片/掩模分级机构、晶片到掩模对准设备，以及包含10 X变焦镜头的高分辨率成像系统、减少阴影和最小化边缘伪影的同轴照明，以及内置具有用户友好图形界面的自动可编程控制单元。这些组件以最佳方式集成到较小的占用空间中,以节省时间并提供更高分辨率的结果。BA 8的对准头设计成能够高精度地固定和移动晶片和掩模。晶片/掩模级由两台无机械电动机组成,它们与精密编码器和行进级耦合,以确保在x和y方向上精确、可重复、单点对准。此外,精密索引器为多曝光对齐过程提供了可重复的掩码运动。KARL SUSS/MICROTEC BA 8的晶片到掩模对准机结合了照明、成像和光学位移技术来精确定位晶片和掩模。这提供了一个高效、准确的对准过程，减少涂层误差和其他缺陷，所有这些都在一个自动低温操作。而且，蒙版卡盘还配备了高分辨率的基准识别软件，以进一步减少错位。最后,MICROTEC BA 8的成像工具提供了较小特征尺寸的卓越分辨率.10倍光学变焦资产允许高精度图样，而其同轴光源消除阴影，确保更均匀暴露的抵抗。另外，这种光学模型是内置的，使晶片与掩模基对齐，以减少临界尺寸的变化。总体而言,KARL SUSS BA 8掩码对齐器提供了制造大型系统所需的高分辨率阵列,并具有精确、高效和可重复性。BA 8以其优越的特性和能力，是经济实惠的光刻加工的完美选择。