二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #293670040 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 100E是一种高精度的掩模对准器，设计用于半导体光刻应用的光掩模或标线的精确对准。MICROTEC MA100E能够为15 nm或更高的设备几何形状提供单曝光和多曝光服务,并且可以对100 nm以下的特征进行成像。设备由光学台、精细校准运动系统、光源、对准精度检测器、晶片级和晶片架组成。光源可以设置为紫外线、可见光或红外光，并提供晶圆的均匀、高分辨率照明。运动单元的设计旨在最大限度地减少与空间平移相关的像差和误差,从而实现对齐精度。机器具有高精度移动到选定对齐点的能力，晶圆可以快速安全地装卸。KARL SUSS MA 100 E还配有一个自动准直器照相机，以提供单个光掩模特征的精确对准，以及一个CCD照相机，用于检查、观察和测量有图样的晶片。此外，还包括一个温度控制显微镜物镜，可用于检查晶圆上的个别特征特征。利用先进的实时纠错工具，MICROTEC MA 100 E在整个打印过程中具有较高的定位精度。该资产还具有8位Gray Code平台,该平台结合了自动对焦、启动校准、实时图像服务和自动曝光,可实现最高精度。为了更精确的调整，有一个精细的调整轮来设置印记的精确模式。MICROTEC MA 100E用途广泛,可用于多种应用,包括为晶圆制造创建阵列层。该模型能够印记10nm的高分辨率线宽,而不会产生任何失真或像素化。此外,MA 100E可用于原型制作和基于原型的生产。它具有深度预扫描和成像设备,用于对图样化晶片进行表面检查,并且该设计允许安装各种成像、检测和图样测量设备。总体而言,KARL SUSS MA 100E掩模对齐器为广泛的生产应用提供了可靠而精确的光刻工艺。它提供了很高的配准精度，加上晶片的快速装卸和视觉检查设施。KARL SUSS/MICROTEC MA100E是一个简单、直观的系统,它允许精确的模式对齐和精确成像到10 nm线宽的特征,而不会产生任何像素化或失真。