二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #9185938 待售
网址复制成功!
单击可缩放
KARL SUSS/MICROTEC MA 100E是一种紫外线(UV)光刻掩模对准器,用于利用微和纳米加工技术制造集成电路、功能机械结构和其他3D结构。该设备提供了可用的最高精度的紫外线光刻,工作面积为5英寸。x 8英寸。适用于广泛的工业和学术应用。MICROTEC MA100E有两个540 nm CW激光光源(6W和4W)。光功率计可确保准确的功率电平设置。组件安装在隔热箱中,以提高稳定性和耐用性。该系统还具有一个移动级,用于相对于毫米分辨率遮罩板精确定位基板。三轴电动级的分辨率为0.1 um,最高速度为2000 um/sec。该单元具有自动蒙版配准、低恒定特征像差、低热漂移、高清图像、增强重迭校正等几大优势。KARL SUSS MA 100 E还配备了带触摸面板的HMI控制接口,提供长达8个步骤的编程,以实现精确的重复性。运算符可以调整诸如曝光时间、重复计数和对齐等参数,包括蒙版对齐、XY对齐和重复对齐。KARL SUSS MA100E使用UV光掩模产生高达256束光束,圆形光束直径为6um。图像在基板上的最大投影在X和Y轴上± 5 mm,最大分辨率为0.5um。该机器还能够进行等离子体蚀刻,以进行精确的图样绘制。该工具可以产生各种各样的结构,从纳米级特征到微米级特征。最后,KARL SUSS/MICROTEC MA100E还配备了保护性铝制面罩,可以阻挡任何可能对敏感材料造成损害的杂散紫外线。该资产还具有包括钥匙开关、运动检测和紫外线快门在内的安全功能。综上所述,MICROTEC MA 100E是一款先进的UV光刻蒙版对齐器,具有自动蒙版配准、低恒定特征像差、低热漂移、高清图像、增强重迭校正等先进功能。该模型是在各种基板上创建精确图桉的绝佳选择。
还没有评论