二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #9278360 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 100E是一种掩模对齐器，旨在促进高精度光刻掩模图样与半导体晶片的接触对齐。设备极为精确，能够以三微米或以下的精度进行注册。此外,蒙版对齐器能够在40 mm x 40 mm的区域对齐,而且精确度足以使标记边缘的对齐精度在3%以内。MICROTEC MA100E使用的光学系统包括电动级和通过XY定位器的头部。KARL SUSS MA 100 E的头部/XY级利用了强大的步进电机和玻璃编码器，允许在XY平面中分辨率达到5纳米。这样可以使目标基板与有图桉的掩模精确对齐。MA 100 E还能够自动进行模式扫描,并具有可从4倍放大到16倍的Power Zoom光学单元。机器可以在单个模具上以高分辨率读取多达16个级别,以便准确对齐模式的详细信息。除了精确的对准能力外，MICROTEC MA 100E还提供了许多其他功能，旨在提高半导体制造的效率。掩模对准器具有一个电容定时电路，允许精确定时曝光。KARL SUSS MA 100E还提供了一个自动快门，该快门可以被激活，以防止晶圆在发生故障时暴露在外。面罩对准器还配备了独立加热器和集成模式识别软件。总体而言，KARL SUSS MA100E掩模对准器是一种强大而精确的工具，用于将光刻掩模与半导体基板对准。该工具的步进电机和玻璃编码器允许在XY平面中精确对准5纳米的分辨率。此外，MICROTEC MA 100 E还包括电容正时电路、自动快门和独立加热器等几个附加功能，使其成为半导体生产行业功能强大、用途广泛的工具。