二手 KARL SUSS / MICROTEC MA-150 CC #9229272 待售
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ID: 9229272
Mask aligner
Power supply: CIC 1200
PC Type: DSM-P233 MMX
Relay interlock box
TSA camera: XC-50
TSA objectives: 5 x / 0.15, 10 x / 0.30, 20 x / 0.40
BSK microscope: 520R Rechts / Right
BSA-Camera 264537 Rechts / Right
Cognex 5000
Power meter
Exposure optics: UV 400
Prealigner
Prealigner sensor head: SI / GAAS / INP
Mask holder
Chuck
Main microcontroller:
Input card: 260PC105-05
Input card: 260PC113-01
D/A Cov DVM²: 260PC102-05
Parallel input / Output exp BSA: 260PC103-03
Valve driver: 260PCPC103-01
Funnel prealigner: 260PC129-02
Manipulators: 260PC116-01
D/A Conv DVM BSA: 260PC102-05
Motor driver DVM²: 260PC109-02
Elevator right: 260PC119-01
Elevator left: 260PC119-01
Microscope x-motor: 260PC119-03
Mask x-motor: 260PC156-04
Microscope y-motor: 260PC119-03
Mask y-motor: 260PC156-04
Microscope motor: 260PC119-03
Mask motor: 260PC156-04
Z-Axis: 260PC119-03
Wafer transfer: 260PC126-03
4 Channels A/D card MOM: 260PC176-03
CPU MOM: 260PC105-16
Stage driver MOM: 260PC168-06
Valve driver 3CB: 260PC104-01
Power supply standard: 260PC124-02
Power: 230 V
Lamp: 350 Watt bulb
2002 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA-150 CC是一种高精度掩模对准器，用于制造半导体芯片、传感器和纳米机电系统（NEMS）等纳米结构或微加工设备。对齐器能够将不同的面罩彼此对齐，精度高达一纳米。它利用一种近场光学设备与高精度级相结合，实现极精确的对准。该系统还允许快速连续对齐多个掩码。MICROTEC MA150CC提供了多种功能,以确保每个新设备都能准确定位并准备进行平版印刷处理。利用设备的可自定义对齐工作区、轴上校正算法和自动晶圆扫描以提高设备精度,此掩码对齐器提供了无与伦比的精度和可重复性级别。此外，机器可以检测到任何意外的晶圆未对齐，使用户无需停止整个过程就可以进行校正。KARL SUSS MA 150CC工具配备了可变孔径控制，以确保光刻过程中只暴露所需的区域。其自动光学定心功能最大程度地减少了手动调整的需要,而其精确的舞台运动控制则确保了舞台运动的准确性和可重复性。此外，其先进的温控室确保了光刻过程中的温度稳定性。KARL SUSS/MICROTEC MA150CC除了具有出色的对齐性能外,也是大批量生产过程的宝贵解决方桉。这一资产能够同时处理多个晶片，让用户最大限度地提高吞吐量，最大限度地减少空间。它还支持各种先进的光刻工艺，包括深紫外线、IC Scope和Step&Scan。总体而言,KARL SUSS MA-150 CC是一款功能强大的高精度掩模对齐器,为用户制造纳米结构和微制造设备提供了无与伦比的准确性和可重复性。此模型具有轴上校正、自动晶片扫描和可变孔径控制等功能,为大批量生产过程提供了最佳解决方桉。
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