二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 CC #293806364 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 200 CC是一种用于光刻工艺的掩模对齐器。它旨在为晶片定位在具有精确X-Y-Z移动能力的舞台上提供高精度的光学对准。该设备允许需要非常高精度的应用，如半导体加工、光学涂层、液晶、LED、MEMS和薄膜沉积。MICROTEC MA 200CC包括一个198毫米的有效场直径和7.9 μ米的可重复性，以及一个可达175毫米的孔径。它配备了对准显微镜设备，确保晶片精确的光学对准。此外，显微镜还包括一个激光系统，用于精确定位面膜上的图样与晶片。所有对齐函数均由基于微处理器的单元控制。KARL SUSS MA-200 CC一次最多支持三个口罩。其高精度X-Y光学对准机提供了更高的吞吐量：场大小为20 x 20 mm ² 150 x 150 mm ²。KARL SUSS MA 200CC还有助于快速改变模式以产生精细模式电路。此外，获得专利的自动化工具能够实现显微镜的自动导航，消除手动对准，并提供可重复性和准确性。MICROTEC MA-200 CC还配备了自动清洁设备以减少划痕和残留物。它包括一个先进的基板处理模型，具有可调的吸力和提升机构。对准器还设计为与石英、玻璃、环氧树脂等各种面膜材料兼容。MA-200 CC是一种通用的高精度掩模对齐器,可为需要高精度的应用程序提供出色的控制。它提供了卓越的重复性和精确对准，以及清洁设备，减少划痕和残留。它是半导体加工、光学涂层、液晶、LED、MEMS、薄膜沉积等多种应用的绝佳选择。