二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 CC #9173378 待售
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ID: 9173378
晶圆大小: 8"
Automatic mask aligner, 8"
Wafer type: Notch
Capable of working with wafer masks up to 9"x9"
Configured for top side alignment
Ergonomic cassette plateforms
1000 W Lamp house
Lamp power supply unit CIC1000 LH1000
UV400 Optic (For 365 nm and 405 nm)
Lamp adapter LH1000 / HBO MA8 / MA200
2 Channels light sensor 365 / 405 nm
AL3000 Auto alignment system
DVM8 Microscope
With motorized objective movement with field expanders
Objective 20x
OLYMPUS UMPL FL 20x
Working distance: 12 mm
XRS Pre aligner
Large clear field proximity mask holder for 9" corner marks
With 8" exposure area
8" Proximity chuck.
KARL SUSS/MICROTEC MA 200 CC是一种主要用于研究和开发电子电路和光掩模生产的掩模对准器。该单元提供高分辨率的精密对准，容量可达200毫米晶圆，可变基极放大倍率范围介于10X和60X之间。它还可以适应光刻胶在高达200毫米晶片上的应用，并允许调整各种抗蚀剂类型的曝光设置。该设备利用步进电机和光学传感器进行精确的对准和聚焦控制，为直接写入应用提供可靠和可重复的结果。它具有基准识别和定心系统,精度为+/-0.10 mm。设备中的照相机可以以最小的反射率检测晶圆对准标记。此外,它还具有自动聚焦机制,以确保曝光时的最高精度。MICROTEC MA 200CC还具有自动晶圆识别、高级过程控制以及允许优化曝光参数的算法。它能够使用石英、铬和铝的光掩模，以及各种各样的光敏材料来设计透明层。该装置可加工环氧树脂、PDMS、SiO2、Si3N4、聚酰亚胺等多种材料，以及Ni、Ti、Au、Pd、Cr. KARL SUSS MA-200 CC等一系列先进材料，非常适合包括电子电路、光乳胶、光刻胶等研发应用。它旨在提供最高级别的准确性、精确度和可重复性,确保可靠且可重复的结果。它也易于使用，并且允许各种材料被图桉化。该设备对于电子电路和光掩模生产的开发者来说是一个非常宝贵的工具，提供了经济高效和高精度的结果。
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