二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 CC #9182471 待售

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ID: 9182471
晶圆大小: 6"-8"
优质的: 1995
Proximity aligner, 6"-8" 1995 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 200 CC Mask Aligner是一种自动光刻系统,用来将图样从光掩模转移到晶圆。它通常用于制造半导体器件和其他微机电器件。MICROTEC MA 200CC对于高精度和重复性至关重要的应用来说是一个经济高效的解决方桉。KARL SUSS MA-200 CC是围绕几个关键组件构建的,例如微共振(MR)级,它提供了光掩模在晶圆上精确且可重复的对齐方式。MR级与基于压电的对准系统耦合,该系统提供了面罩相对于晶片的垂直和横向定位精度。此外,KARL SUSS MA 200 CC采用高通量、高分辨率6英寸步进器,可提供高达340 µm/秒的光学通量,在X、Y和±中的对准精度为Θ 1 µm。在操作中,将一个光掩模加载到MR级,然后使其靠近晶片。然后光掩模和晶片光学对齐参考标线标记和一个凉爽的白色LED。这种对准是在晶圆对准和曝光之前使用三照相机方法进行的。对准完成后,晶片曝光,然后将MR级移至下一个曝光位置。完成所有曝光后,将卸载光掩码,并加载新的光掩码以进行进一步曝光。除了这种传统的光刻工艺之外,KARL SUSS MA 200CC还包括一个自动协议,用于同时对齐和曝光多个晶片,以最大限度地提高生产率。MA 200 CC具有多种特性,使其成为半导体器件生产中必不可少的工具。它提供0.5 μ m到10 μ m的分辨率,并且可以暴露各种底物材料如聚合物和杂种。此外,它的价格具有竞争力,而且能够适应各种工艺步骤和材料。MICROTEC MA-200 CC是一种通用可靠的工具,可以满足制造高价值微电子器件的艰难要求。因此,它已成为任何光刻实验室制造复杂微型设备的重要组成部分。
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