二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 Compact #9289493 待售
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KARL SUSS/MICROTEC MA 200 Compact是一种自动化、全自动、掩模对齐器,旨在方便、精确地平面化用于显微光刻的光掩模。它是一种闭环面罩对准器,利用专利的光束转向技术,以高精度快速对准面罩。对齐器具有独特的刚性四列框架,可实现多种对齐策略。MICROTEC MA 200 Compact的低振动设计和直线滑动设计提供了出色的长期稳定性和可靠的效果。KARL SUSS MA-200 COMPACT有两种扫描机制。第一种是专利的光束转向自对准机构,使用主动和被动元素在指定位置的几纳米范围内自动对准掩模。第二种是一种固定的梁偏转机构,其视场可达2000 μ m,允许广泛的阵列覆盖。对齐器可以配备各种卡盘和晶片级,并具有有序的晶片交换系统,便于快速改变掩码。KARL SUSS/MICROTEC MA-200 COMPACT配有激光二极管激光器自动对准和连续覆盖玻璃扫描系统,用于边缘检测和验证。KARL SUSS MA 200 Compact设计为提供精确的横向对准精度,自动处理直径达200毫米、厚度达4.5毫米的晶片。此外,MICROTEC MA-200 COMPACT还配备了两个集成的精密扫描透镜,可将样品成像到掩模上以正确对准。这些透镜是完全消色差的,设计提供最大的成像灵活性。这种对齐器还具有扫描加速度计减少振动、平面内校正机制等先进功能,以消除由于晶圆弯曲而留下的任何对齐残差。MA 200 Compact提供简单的操作和最小的操作员培训,为不间断的生产提供多层次的用户访问。具有图形用户界面、易于校准和多个测试/验证步骤的用户友好型设计使操作员能够使用掩码对齐器快速启动和运行。MA-200 COMPACT为掩码处理提供了最大的可重复性和多功能性,是高精度光刻应用的理想选择。
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