二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 EL #9193662 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 200 EL是一种掩模对齐器，设计用于光刻工艺，在微电子器件中创造微米或亚微米的特征。适用于光掩模、复制品、微加工、MEMS、金刚石车削（超精密光学金刚石切割）等应用。设备使用小型高速掩码对齐器将所需的图桉精确指向光掩码，然后将掩码暴露在底层上。设备配有6轴运动系统和电动显微镜，可相对于基板精确对准。该单元还包括一个可变角度和一个电动缝隙孔，用于微调曝光参数。MICROTEC MA 200 EL由X-Y扫描阶段控制。它能够提供高达200 x 200 mm的工作区域和高达25 x 25 mm、高达1 µm场精度的若干样品基板。最大速度为3.5米/秒。该机采用高性能的16位SPiD-2控制器，与运动级控制电动缝隙，实现亚微米精度对准。它还包括一个基于FPGA的视觉工具，能够自动识别底层位置。KARL SUSS MA200 EL包括改进的单掩模、单曝光模式，曝光时间长达5秒。它能够根据设计布局自动控制曝光参数。通过偏转控制提高了对准的准确性和可重复性。此外,资产还能够手动调整掩码和芯片之间的垂直未对齐角度。该设备体积小巧，重量轻，易于维护，是实际工艺工程和开发应用的理想选择。它可以轻松集成到标准的清洁室环境中。