二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9238413 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 200是一款用途广泛且精密工程的掩模对齐器。它提供了具有高均匀性和可重复性的晶片和掩模的精确和可重复对齐。这种装置允许将直径达200毫米的基板精确对准直径达880毫米的口罩。MICROTEC MA200设计用于生产光刻。它具有简单、用户友好的界面,使用户能够快速编程所需的对齐和曝光参数。控制机器的软件功能强大,易于理解.它还提供存储程序的能力、照明设备的自动调整以及微调操作助手等高级功能。KARL SUSS MA-200采用了一系列先进的精密光学和电子设备，以确保半导体晶片和其他基板的精密对准和曝光。该光学器件采用铜-蒸气激光束和步进电机驱动的透镜系统来提供精确的对准。机动化晶片与掩模对准单元的精度高达30纳米,可确保基板与掩模的可重复、精确对准。光学器件还能够横向、高度和横向倾斜校正，以及非接触晶片到掩模轮廓匹配。MA-200还配备了自动面罩处理机，用于晶圆到面罩交换和大型镜头的处理。晶片到掩码的交换是使用电梯工具进行的，真空资产精确地保存和释放晶片和掩码。先进的光学元件生活在温度和湿度控制的环境中，确保了对光刻工艺的最大保护。KARL SUSS MA200为生产掩模实践提供了一种高效、经济高效的解决方桉,确保晶片基板的精确对准和曝光速度高达每小时16个晶片。这使得该模型非常适合大批量生产应用。