二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9373260 待售
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ID: 9373260
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
Mask aligner, 8"
Topside alignment
Cassette to cassette
Field proximity mask holder for corner masks, 9"
With exposure area, 8"
Vacuum chuck: Thermal proximity chuck, 8"
Mask holder: 9" x 9"
LH5000 Lamp house: 5000 Watts
KARL SUSS CIC 5000 Power supply
UV400 Optics (For 365nm and 405 nm exposure)
With G-Line filter
Objectives: 5x, 10x
AL3000 Auto alignment system
DVM8 Microscope
JULABO Chiller
Isolation table
User manual
1000 Intensity meter with 365 and 435 nm probes
2000 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 200是一种掩模对齐器,用于精确定位,然后将图样传递到所需的表面,该表面可以包括半导体基板或光掩模。掩模对齐器能够将特征对齐到0.2微米,并且能够覆盖和对齐某些情况下数百微米的特征。这台机器是非常精确和高效的,允许非常具体和可重复的基板上的特征对齐。机器本身由XY级、用于对准和定位基板和掩模的四轴机械手、最小分辨率0.5微米的亮场和暗场显微镜组成。机器包括一个内置的计算机系统,它允许用户编程对齐点和控制机器。可编程的对齐功能非常精确,允许进行各种对齐操作,如圆形到圆形、矩形到矩形以及圆形到直线。机器还包括激光二极管对准,使用激光为用户提供面罩和基板精确对准的参考点。MICROTEC MA200的用户有能力同时控制机器的所有四个轴,并自动或手动调整基板和掩模的位置。用户也有能力根据基板和设备来调整机器的曝光。KARL SUSS MA-200在半导体工业中被广泛使用,因为它提供了一种将图样转移到基板上的快速而准确的方法。该机速度快、效率高,使用户在保持传输精度高、精度高的同时,实现了高收益、低周转时间。此外,激光二极管对准可以在对准掩模和基板时获得很高的准确度,确保模式的传递是精确和可重复的。
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