二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200E #9227902 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 200E掩模对准器是一种精密晶片对准设备，专为将亚微米设计布局对准和转移到晶片而设计。MICROTEC MA 200E是一个世界领先的系统,用于广泛的应用领域,包括半导体生产、光学装配和MEMS生产,它们需要1um或更小的底物特性。该单元提供接触和非接触晶片对准其先进的显微镜和高度精确的舞台运动。KARL SUSS MA-200E配备了高性能的光学机器,包括先进的特性,如1 um的对准分辨率、高达400 mm/秒的增强加速度,以及可与CAD软件集成的高级显微镜工具,以实现高级注册和测量能力。该资产还具有用于精确晶圆配准的自动大视野图像捕获模型。此外，设备还具有集成的对齐功能，包括非接触晶片边缘对齐、基于模式的对齐和虚拟对齐。除了晶片对齐之外，KARL SUSS MA 200E还提供了一个高效、准确的亚微米设计布局从项目主页转移到晶片的方法。这种高效、精确的传输是由真空卡盘系统和传输厚度控制光学单元实现的。真空卡盘机通过使用高达84kPa的真空电平，帮助将母体精确放置在晶片上。传输厚度控制光学工具可确保传输厚度保持在0.01微米±的精度。MA-200E还包括一些自动化功能。这包括全自动对准和传输过程控制功能以及用于缺陷检测的激光模式。自动化的过程控制功能有助于确保准确和可重复的对齐和传输结果。此外,激光图样还可以自动检测缺陷,精度高达0.15微米。MA 200E是一种先进的晶片对齐资产，具有先进的功能，非常适合一系列需要高精度的应用。该模型为您的所有对齐和传输应用程序提供高性能、自动化和准确性。