二手 KARL SUSS / MICROTEC MA-300+ #156834 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA-300+是一种先进的用于半导体器件制造光刻的掩模对齐器。该对准器具有精密光学器件，用于将光掩模高分辨率对准基板。MICROTEC MA-300+配备了基于视觉的自动对准设备,可确保最大的对准精度以及全场晶圆覆盖范围。KARL SUSS MA-300+蒙版对准器配备了自动舞台运动系统、光学单元和蒙版夹紧机。自动舞台运动工具优化了光刻工艺的质量，而光学资产则允许直接成像和对准。夹紧模型将口罩牢固地固定到位，并在对准过程中保持其定位稳定性。MA-300+光刻设备采用先进的计算机控制曝光框架，可实现最高的精度和效率。该系统能够处理1.5、5和10微米的掩码对齐机箱,以及更大格式的掩码。该机还配备了可调节的孔径和舞台高度调节，以及改进的场平整机。这样可以确保所有晶片都暴露在均匀、高质量的光照下，以保持最高水平的图像质量和准确性。KARL SUSS/MICROTEC MA-300+对准器具有自动传感器校准功能，以及用于紫外线、深紫外线和长波长光源的集成滤波工具。它还使图样分析能够优化光刻工艺的精度。MICROTEC MA-300+使用冷却的垂直石英卤素灯和可调电源供电。KARL SUSS MA-300+还具有自动流体管理资产，用于在光刻过程中优化弹簧加载的LEPT容器中的流体去除和补充。MA-300+掩模对齐器的占地面积很小，非常适合在狭窄的空间中使用。它易于设置和操作，既适合有经验的用户，也适合新手用户。它还提供高分辨率成像，以确保最高质量的晶片。KARL SUSS/MICROTEC MA-300+是一款可靠高效的掩模对齐器，使其成为半导体器件制造商的热门选择。