二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 45 #9159265 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 45掩模对准器是一种专门的设备，设计用于将分层光掩模精确对准或"暴露"到像晶圆这样的基板上。对齐器通过先扫描并自动对齐整个晶片来执行,然后再曝光每一个分离的蒙版和蒙版层。通过使用基于激光的自动扫描系统，可以在延长运行期间保持对准精度，而无需重新对准掩模。这使得该单元非常适合工业应用以及研发过程。MICROTEC MA 45掩模对准器由一个固定基板（通常是晶圆）的级和一个放置光掩模的"板"组成。对准器的光学机器安装在掩模和基板上。要暴露每一层或遮罩,此光学工具将遮罩精确对准晶片。通常以大约一微米的精度执行对准。KARL SUSS MA-45面罩对准器利用明亮的紫外线光源来暴露面罩的每一层。光线通过光掩模投射,然后投射到晶片上。接下来是开发人员的应用程序。显影剂用于从暴露于紫外线的晶片区域中去除不需要的光刻材料，留下所需的图像或图桉。掩码对齐器的资产由几个模块组成,这些模块可以为特定应用程序单独配置。这些模块提供步进电机控制、激光检测、成像、光学对准和晶圆固定功能。掩模可以以批处理模式或一次一个晶片曝光。对准器的光学投影模型由远心目标和数字图像分析单元组成。显微镜还包括一个二极管阵列和一个接口的CCD相机，允许捕获掩模图像，以便测量和确定对准精度。MA-45掩模对准器是一种高度精确的设备，用于对准和暴露分层光掩模到晶片上。它的自动对准力学和照明光学系统允许在一次运行中精确、高效地对准多个掩模,使其成为工业和研究环境的绝佳选择。该单元的模块化设计进一步使其能够适应许多不同的应用。