二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 55 #123195 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 55是一种光刻设备，为光掩模与多种基板的精确对准而设计。它特别适合于微电子、微机械和光电器件的制造。MICROTEC MA 55是一款手动掩模对准器，配有8x8英寸的精密光学表和10倍显微镜。它有一个内置的二维（2D）对准系统，用最少的操作员干预来对准掩模和基板。该装置旨在为掩模和晶圆定位提供平面和倾斜对准能力。它能够保持0.4微米的性能±当配对到一个平面。KARL SUSS MA-55提供了一个通用、高精度的光刻平台。有两个单独的控制系统用于掩蔽和晶圆处理。每个都有自己专用的基于Windows的软件,用于数据输入和操作。掩码控制机允许用户输入掩码数据，如位置图形、掩码大小和类型，以及迭加和未对齐。晶圆控制工具允许用户输入位置图形、晶圆形状、晶圆类型等晶圆数据。MICROTEC MA-55提供高分辨率光学器件，包括10倍显微镜和5倍显微镜，用于放大光刻过程中的对准和观察。它还包含一个低功耗的500万像素数码CCD相机，用于拍照和现场口罩检查。此外，KARL SUSS/MICROTEC MA-55包含一个内置的空气轴承滑轨资产，用于精确的掩模对准和晶圆操作。空气轴承滑轨模型可确保稳定的掩模-晶片对准,从而实现亚微米位置对准精度。MA 55支持多种尺寸可达8 x 8英寸的光掩模和多种晶圆形状。其曝光灯产生精确、均匀的照明场，强度高达10,000卢克斯，所有的对准和曝光部件都用集成气体过滤模块进行真空密封，以防止污染。MA-55是一种可靠、准确的光刻设备，广泛应用于各种行业。它通过先进的光学设备、CCD摄像头和空气轴承滑轨系统提供高对准精度。内置气体过滤装置可确保清洁和无污染物的暴露，从而获得一致的结果。凭借其多用途的能力，这款掩模对准器适合用于电子、微电子、光电、微机械设备的原型设计、研究和生产。