二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #119483 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 56是一种为光刻工艺设计的自动掩模对齐器。它使用超精密、基于激光的投影对准设备，以提高光刻过程中将掩模对准晶片基板的精度。MICROTEC MA56设计用于制造高密度半导体器件,包括用于逻辑和内存应用的半导体器件,能够为器件对准提供亚微米级精度。KARL SUSS MA-56具有多种功能,使其成为各种光掩码对齐应用程序的绝佳选择,同时还使用户能够自定义其流程。它配备了一个大的8英寸遮罩场，它提供了足够的空间来容纳各种各样的尺寸和几何形状，包括小和大格式的遮罩。另外，KARL SUSS MA56有两个独立的投影对齐器，两者都能提供具有亚微米精度的点上对齐。KARL SUSS/MICROTEC MA-56采用模块化设计,使用户能够根据其特定的生产需求定制系统。它配备了各种各样的镜头选项,每一个都为特定的应用提供了自己的好处,例如分辨率和对焦深度。该单元还具有多种其他可选组件,例如用于多层对准的光束组合器、用于模式组合的扫描仪以及用于使用不同波长激光器对准的各种投影目标。MICROTEC MA-56能够存储多达6个掩码,从而便于在不同的光掩码组之间快速切换。KARL SUSS/MICROTEC MA56利用晶圆处理机,使晶圆的精确子集能够精确地定位在持有者上。该工具还配备了自动反射对准功能，可快速补偿表面反射率和任何扫描仪误差。此外,KARL SUSS MA 56还可以通过自动间隙传感器和真空孔调节等高级选项进行升级,从而提高性能和准确性。除了具有出色的掩模对准能力外，MICROTEC MA 56为各种基板提供了精确的条件。它利用精确的温度和湿度监测资产，使设备在最优条件下制造。MA 56还配备了先进的安全模型，可以防止设备在化学敏感环境中运行时发生任何与设备运行相关的事故。总体而言，MA-56是高密度半导体器件精确掩模对准的绝佳选择。它配备了先进的投影对准系统，可以提供亚微米的精度和控制。此外,MA56提供了广泛的功能和组件,使其能够根据各种需求进行定制,同时还为各种基板提供了精确的条件。