二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #9124210 待售

ID: 9124210
晶圆大小: 5"
Mask aligner, 5" Resolution: 3 µm (proximity) 0.8-1µm (vacuum contact) Capable of hard contact Soft contact Proximity exposure modes 350 Watt CIC500 power supply Splitfield microscope.
KARL SUSS/MICROTEC MA 56是一种用于光刻应用的掩模对齐器。它有一个三轴自动级,允许同时对准口罩和基板,使其适合高精度的应用。该设备体积小巧,重量轻,便于在生产场所和实验室之间移动。MICROTEC MA56可通过用户友好的软件进行编程,该软件具有直观的图形用户界面(GUI)和带指南的帮助菜单。GUI允许用户轻松选择相关参数并准确设置所需参数集。KARL SUSS MA-56配有两个摄像头,一个用于生成视野图像,另一个用于对准口罩和基板。MA 56具有获得专利的精确激光系统,该系统可以检测掩模中的小缺陷,从而实现从单个微观结构到25 mm的高精度对准和模式集成。它的开放式体系结构允许与生产过程的其他组件(包括掩码和晶圆处理系统)轻松集成。该单元设计为提供最大图像质量,具有两种不同波长范围的镜头;UV和DUV.在紫外线应用中,提供了0.4的NA,用于均匀装载和卸载直径不超过150 mm的基板。这些镜头还与辅助光学器件兼容,允许放大和提高精度。KARL SUSS/MICROTEC MA56既支持标准薄膜沉积系统,也支持先进的GaAs蚀刻系统,并带有索引标记读卡器,以确保掩码易于定位。它还具有内部软件控制快门,允许用户在手动快门模式和自动快门控制之间进行选择。MICROTEC MA-56的设计可实现非常高精度的对准,最小特征尺寸为0.5 μ m。它还提供了可变周期时间优化算法,允许更快的处理和更高的吞吐量。总体而言,KARL SUSS MA 56是一款用途广泛、精度高的掩模对准器,甚至适用于要求最苛刻的光刻应用。它提供了卓越的图像质量、自动化的对齐和高吞吐量的过程,而且用户干预最少。
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