二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #9302582 待售
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ID: 9302582
Mask aligner
Type: 10300112 MJB-55
Substrate size: 2.5" x 2.5"
Can be modify upto 5"
UV400 Optics
Operation modes: Soft and hard contact
Does not include cold light mirror
LPS-1000 Power supply
Lamp house: 350 Watts
Manual included.
KARL SUSS/MICROTEC MA 56是一种蒙版对准器,利用光学光刻技术在光刻胶等材料中产生微观结构。对齐器由两个主要组件组成:蒙版支架和步进表。遮罩架是一个机械平台,包含一个高度可调的遮罩架,用于移动遮罩以便与基板对齐。步进台是一个步进电机驱动的平台,它允许样品的微观水平对准。MICROTEC MA56设计用于提供200 nm至100 nm的亚微米结构的高分辨率图样和精确对准,并具有0.8/1的数值孔径(NA)。该机器能够产生小到0.5um的特征大小的图样。它还能够执行365 nm至365 nm的曝光间隔,步长为0.5-20微米,曝光时间为0.1-200 ms。此外,机器还配备了自动聚焦控制单元,允许用户预设所需的聚焦,从而确保曝光阶段的焦点得到完美调整。KARL SUSS MA-56由广泛的软件包提供支持,旨在促进协调过程。它提供了广泛的对齐辅助工具,如自动曝光(AE)、自动聚焦(AF)、自动调平(AL)、焦点恢复(FR)和模式优化(PO)工具。此外,该设备的设计具有多功能性,因为它的模块化设计允许使用可交换的口罩和各种基板固定系统。所有这些功能都有助于创建更精确、更高效的光刻工艺,从而提高设备制造的质量。MICROTEC MA 56是一种用于光刻应用的可靠和高度精确的光机械工具,用于利用光刻技术的力量产生复杂的图样和亚微米结构。它为精密高效的光刻提供了广泛的功能,为设备制造提供了更快、更准确的模式对齐方式。
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