二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 6 / BA 6 #9226441 待售

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ID: 9226441
优质的: 2018
Mask aligner Manual alignment stage: Automatic wedge compensation system: Contact / Without contact (Mask and wafer) Alignment gap program: 1 - 1000 Micron 1 Micron resolution Movement range mask aligner mode: X ±10.0 mm, Y ±5.0 mm, Theta ±S" Movement range bond aligner mode: X ±3.0 mm, Y ±3-0 mm, Theta ±3° Machine base with mechanical, pneumatic and electrical equipment Adapter system: Mask holders: Up to 7" x 7" maximum TSA Microscope stage: X, Y Manipulator (Motorized) Manual rotation Wafers / Substrates: Manual loading and unloading Microprocessor control with LCD display Lithography applications Wafers: 2" Up to 150 mm Diameter Substrates: 2" x 2" Up to 6" x 6" Bond application Wafers: 3" Up to 150 mm diameter Operator manual on CD BSA Microscopes with working distance 33 mm Alignment stage: X, Y Theta WEC Head for BSA microscope objective separation in X direction 15 mm to 100 mm Motorized Z axis Bottom side alignment system: Separation in X: 15 mm - 100 mm Travel in Y: - 20 mm to + 50 mm Motorized focus: 6 mm Enhanced Image Storage System (EISS): PC With image and fine focus control M 306 / 8, DVM 6/8 and BSA TFT Flat screen, 17" Integrated trackball S-VGA Resolution: 1280 x 1024 SUSS DVM6 Microscope: (2) CCD Cameras Objective separation: 47 to 140 mm Single objective UMPL FLI Working distance: 20 mm Exposure unit: Wafer / Substrate: 150 mm Exposure lamps: Up to 500 W 2018 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 6/BA 6是一种手动掩模对齐器,用于光掩模和基板的高精度纳米光刻图桉。这台机器被用于涉及微观特征的设备的批量生产、研究和开发。它是一种自动工具,用于对齐具有10nm精度和步骤可重复性的掩模或基板。MICROTEC MA6/BA6具有极高的精确度和可重复性,非常适合设计光掩模和基板。它是一种先进的光学光刻工具,具有两个独立的腔室,即遮罩腔室和基板腔室,以提高准确性和可重复性。掩模室有一个180度摆动门,用于在任何对齐配置中最多装卸两个掩模。它具有两个5位可升级蒙版表,可轻松对齐蒙版蒙版。面具室还提供通过机动XYZ舞台进行手动或自动平移和旋转的可能性。基板室有一个180度摆动门,用于在任何对齐配置中最多装载和卸载四个基板。它还具有一个5位可升级基板表,以便于基板对齐。基板室通过机动XYZ级提供与面罩室相同的手动或自动平移和旋转。KARL SUSS MA6/ BA6使用先进的照明系统来确保精确的遮罩与基板对准和曝光。它结合了LED和微型卤素灯照明源,以最佳的强度控制和传递均匀性。该系统还为不同的应用程序提供各种对齐模式的选择,例如全自动、半自动和手动。它还具有软件控制的运动检测技术,以确保两个可用光束源的优越位置精度。MA 6/BA 6是先进光刻应用的绝佳选择,因为它提供了无与伦比的准确性、可重复性和速度。它是在包括微电子学、MEMS、光电子和磁存储在内的各个领域扩大研发和批量生产的可靠、成本效益高的工具。
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