二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 6 #9179543 待售

ID: 9179543
晶圆大小: 6"
优质的: 2003
Mask aligner, 6" With HITACHI VM-1220U Monitor Top side alignment Mask system, 5" Hg-Xe Vapor lamp Mid-UV range: 250 nm 2 Channels: 475 W Capable of processing: 4"-6" Mask size: Up to 7" x 7" standard Substrate size: 2" x 2" - 6" x 6" Exposure optics: Wave length: UV 400 L-line and G-line Exposure source: 350 W 2003 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 6是一种高端掩模对齐器,用于UV纳米光刻工艺的掩模图样对齐。这是半导体制造和光掩模制造的工具。它能够提供6英寸晶片的亚微米对准能力,用于微电子元件的精细阵列。MICROTEC MA6具有独特的光束扫描设备,包括四个面罩自动对焦引擎,总共8个自动对焦传感器。它们提供高分辨率的光学图样识别,用于自动重新调整和校正掩模上的图样。高分辨率成像系统还能够检测到掩模中的轻微失真以及低至0.3微米的像素分辨率。该工具旨在提供高吞吐量和快速对齐时间,6英寸晶圆的循环时间小于6分钟。通过机载软件实现的自动对准和优化,可以保证用户的高产率和准确性。该单元还与高级布局编辑软件兼容。该机器被设计为集成到现有的光刻环境中,并配有低压和高压电源,可为高吞吐量应用提供高达150瓦的功率。此外,功率是可调的,以确保恒定的电阻率和均匀性的曝光,从而能够严格控制退火响应。KARL SUSS MA-6提供了一套全面的用户控制,包括调整曝光时间、曝光区域和光束直径。此外,还可以通过触摸板控制对焦点、对准区域和光束格式进行小的调整。此外,该工具还配备了额外的功能,可实现图案去色和标线添加。MICROTEC MA 6是一种可靠、精确的掩模对准器.它提供了一系列全面的功能,并为用户提供了一个可靠的工具,该工具能够提供亚微米的对齐功能和高吞吐量。MA 6适合于各种掩模模式的需求,包括与光掩模制造工艺和半导体制造相关的需求。
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