二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen 2 #293652018 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen2是一种先进的对准和曝光工具，为光刻工艺提供高分辨率和精确度。它为基于晶圆的应用程序启用单层和多层进程。该设备为中高批量生产需求提供了完整的解决方桉。MICROTEC MA 8/BA 8 Gen2提供了高吞吐量的功能,可选择集成从单光源到四光源的多个曝光源。这支持快速的位置迭加和曝光时间优化。它具有高精度的6轴掩模和基板对齐器，用于精确的过度铺设，以及用于高分辨率对齐的精密晶圆运动。该系统还提供非接触抗蚀剂和基板温度控制，以获得最佳效果。它可以处理各种口罩和基板,尺寸可达270 mm,在所有三个轴上的位置定位精度最高可达5 μ m。该单元支持2"至9"的蒙版尺寸,并可选择具有多个夹紧位置的可互换蒙版支架。该机提供车载综合工艺控制，配有双波束对准单元和内置晶圆导航罗盘。它支持自动光学聚焦和固定视场对准,以及全自动掩码对准和曝光周期。该工具的高级定位以高精度验证每个曝光图像的配准精度。KARL SUSS MA 8/BA 8 Gen2专为强大可靠的操作而设计,确保增强用户体验。它具有广泛的环境控制，包括广泛的温度范围、湿度控制和清洁空气选项，以创造晶圆加工的最佳工作环境。总体而言,MA 8/BA 8 Gen2是一款多功能、高性能的掩码对齐器,可为各种应用程序提供卓越的精度和精确度。它具有满足低批量和大批量生产要求的灵活性,从而能够可靠地生产超精确的组件。