二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen 2 #9352165 待售
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ID: 9352165
晶圆大小: 8"
优质的: 2007
Mask aligner, 8"
Top and backside alignment
Splitfield microscope
UV 400 Exposure optics
Wavelength range: 365-405 nm
Lamp house: 1000 W
CIC1200 Lamp power supply
BSA Chuck
Mask holder
Operations manual
Documentation
Operation modes:
Hard contact
Soft contact
Vacuum contact
Proximity
Ellipsoidal mirror has been replaced
UV Bulb has been replaced
Cold light mirror
Front turning mirror
Front lens
Shutter cylinders has been replaced
Mirror house cylinder has been replaced
Microscope illumination bulbs has been replaced
Microscope assembly
Optical microscope alignment
WEC Head
Pneumatic regulators
Cover
Isolation table:
Air bag
Air line
Wheels
Leveling feet
Power supply: 200-240 V, 50/60 Hz
2007 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2是光刻工艺中使用的半自动蒙版对齐器。该掩模对齐器用于处理光掩模和晶片基板，以创建高精度和精确度的设备。Gen 2具有许多功能,可以在蚀刻和制造半导体器件时提高速度、精度和可靠性。MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2利用最新的光学技术和自动精确对准,实现精确的小规模阵列。掩模对齐器是自订配置，以满足使用者的需求，其特性包括可调节的掩模放置场、用于掩模传输和对准的步进电机驱动系统，以及高精度的掩模定位系统。此外，其先进的温度控制技术确保了沉积和模式的一致结果。为确保精度,KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN2能够实现亚微米分辨率,精度高达+/-20 nm。用户可以配置对齐器来处理各种基板,包括直径最大为8英寸的基板。此外,计算机还具有灵活的体系结构,使用户能够自定义其设置,以满足各种应用程序和流程要求。KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 GEN2适合制造一系列半导体器件，如集成电路、晶体管和内存芯片。此外,它的软件包允许用户执行全面的数据记录和分析,使用户能够轻松、自信地监控其计算机的性能。KARL SUSS MA 8/BA 8 Gen 2是一种可靠、高效的掩模对准器，旨在提高小规模光刻的吞吐量和准确性。凭借先进的光学性能和精确的对准能力,Gen 2确保了高质量的结果。它具有可自定义的选项，是任何半导体制造应用的完美工业工具。
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