二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293609808 待售
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ID: 293609808
Mask aligner
Movement range mask aligner mode: X +/-5.0mm, Y +/- 5.0mm, Theta +/-5°
Movement range bond aligner mode: X +/-3.0mm, Y +/- 3.0mm, Theta +/-3°
Zero position:
Machine base frame: Mechanical, pneumatic, electrical 230V 50/60Hz
Joystick X/Y- and THETA for alignment stage control
TSA Microscope stage with manual / Motorized X-Y-manipulator and rotation
Integrated microscope tilt
BA function:
Manual loading and unloading
PLC Control with LCD display
WINDOWS GUI
Wafer 3" up to 200 mm diameter for bond application
Operator manual
For BSA microscopes with working distance 33mm
Adaption kit Included for constant dose exposure mode
Implemented tooling rack for tooling storage
Qty / Part number / Description
(1) / G206986 / Mask and bond aligner
(1) / 100002005 / Pneumatic expansion kit (BA/UV-NIL/SCIL/SMILE)
(1) / G207694 / Housing TSA/BSA
(1) / 100002830 / Alignment stage WD-33/MOT/A-200
(1) / G207720 / Operation desk mot
(1) / G206685 / M608 Microscope lift mot
(1) / 100000786 / M608 Visual / Screen splitfield microscope / AL400
(2) / G156881 / Turret
(2) / G145984 / Single objective umpl FL 5X/0.15
(1) / G206017 / Exposure unit LH1000
(1) / G179183 / Lamp adapter LH1000/1000W
(1) / G202518 / Lamp power supply unit cic 1200/LH1000
(1) / G206080 / OPTICS UV400/HR/W-200/LH1500
(1) / G206829 / 2 Channels light-sensor 365/405NMFORCIC
(1) / 100018553 / Adapter system for maskholder
(1) / 100008204 / Mask holder
(1) / 100020052 / Mask holder BL/PROX/CONT/M-7-9/W-150.
KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3是一种用于光刻应用的高精度、高精度的掩模对准器。该设备主要用于生产精密微电路和光刻蒙版，执行蒙版对准、晶圆曝光和升空过程。MICROTEC MA8BA8-GEN3掩模对准器配备了二维、两轴微驱动,能够提供一流的精度、准确性和精确度,而不会牺牲时间或精力-即使是高密度对准。KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN 3具有高达8微米的分辨率,具有自动预对准配准和高级聚焦控制等高级功能。此外,掩模对准器是无人驾驶的,具有光学对准功能,可确保高精度定位。该装置支持特殊材料，如薄膜，其优化的薄玻璃操控机构。此外,通过可变对准速度和角度调整,KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3能够减少循环时间,防止聚焦变化。为了进行校正,还提供了一系列图形用户界面,可帮助优化和排除掩码对齐器的故障。这包括一个图形模拟功能，以确保准确的对齐结果之前和过程中。为进一步确保高精度,KARL SUSS MA8BA8-GEN3掩模对准器还支持多个检查和校准位置,包括非接触式非接触式深度测量系统。MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3最多可容纳6台CCD摄像机,适用于批处理或单晶片应用。它还具有安装在炮塔上的视口，具有较低的热色散，可增强激光对准，以及易于对准的旋转操纵杆。掩模对准器使用MICROTEC SuperMultiDrive软件,使其与所有标准的热、电子束和光刻系统兼容。MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3掩模对准器具有无与伦比的精度和精确度,为光掩模和晶圆曝光提供了出色的光刻效果。此设备具有卓越的晶圆处理能力,是任何微电子设备的基本工具。
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