二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293633676 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3掩模对准器是一种先进的光刻设备，用于制造集成电路和其他高精度和高精度的微电子结构。该掩模对准器具有低粒子发射、高生产率、可靠操作等特点，以满足现代光刻应用的需求。MICROTEC MA8BA8-GEN3掩模对齐器配有高分辨率半自动线性级,无需手动调整即可实现精确对齐。它还有一个大的机器空间（190 mm x 290 mm），可以容纳多种基板。MICROTEC口罩对准器设计有寿命长的灯，可调节的聚焦和曝光时间，曝光精度为0.25 µm。对准器中的光学设备具有高达两微米的超高分辨率，以确保极精确的图样配准。KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN 3掩码对齐器还提供直观的软件控制对齐系统，提供简单的批处方转换和方便的远程对齐调整。对准器包括传统单步、双步和亚微米曝光能力的三种曝光模式，以及具有出色曝光精度和可重复性的曝光控制。MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3掩模对准器配有一个自动化晶圆处理单元，可处理多达八个不同直径（小于或大于8"）的晶圆。自动化机器还可以一次性处理10个口罩片，以提高生产率。这些功能共同为用户提供了快速、准确的光刻结果。最后，为了提高可靠性和减少磨损，MA 8/BA 8 Gen3面罩对准器配备了维护跟踪机。此工具允许用户监视组件、测量性能和检查预防性维护任务。这种维护跟踪资产确保了掩模对准器以最高效率运行，从而保证了可靠的运行和优异的效果。