二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293800513 待售
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ID: 293800513
晶圆大小: 8"
优质的: 2017
Mask aligner, 8"
Alignment functions:
Top Side Alignment (TSA)
Bottom Side Alignment (BSA)
Substrate size: Up to 8“ x 8”
Resolution: 0.5 µm
BSA Alignment accuracy: <1 µm
Alignment gap programmable: 1 to 100 µm
Mask aligner mode: X ±5.0 mm, Y±5.0, Θ±5°
Bond aligner mode: X ±3.0 mm, Y±3.0, Θ±3°
Motorized stage: 0.1 µm
LH1000 Exposure unit
LH1500 Lamp housing unit
PLC Control with LCD Display
Operating system: Windows GUI
2017 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3是一种全自动掩模对齐器,用于在生产运行中快速准确地暴露晶片。该机组由吞吐量微调器、精确的图样配准设备和高性能聚酰亚胺抗蚀剂系统组成。MICROTEC MA8BA8-GEN3上的吞吐量微调器能够快速处理,吞吐量速度高达每小时8个晶圆。旋转器使用高度精确的速度控制单元,以确保一致和可靠的曝光。此外,旋转器通过其获得专利的3D自动聚焦功能,可以精确控制焦点深度,还包括跟踪和校正基板上重大位置错误的基准跟踪机器。设计了KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN 3型式配准工具,用于晶片上精细型式的快速完整配准。该装置配备了边缘检测资产和图像针背捕获模型,以获得高精度的对准性能。此外,一套高分辨率变焦光学元件可以精确检查图桉,以确保质量对齐。MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3的聚酰亚胺抗蚀剂设备设计用于各种抗蚀剂和基材晶片的暴露。该单元配备了广泛的可变曝光参数,包括强度、曝光面积和分辨率,在应用上具有很大的灵活性。它还配备了先进的污染控制系统,能准确控制残留的大气颗粒污染。MA8BA8-GEN3是一种经济高效且可靠的面罩对齐器,设计用于生产各种基板的高精度图样对齐和抵抗的运行。它具有吞吐量微调的快速处理能力,其精确的图样配准和聚酰亚胺抗蚀剂系统保证了细腻图样的质量对齐。最后,该装置还包括一个先进的污染控制装置,以提高工艺的均匀性。
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