二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293812008 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3是一种非常可靠、准确和高效的下一代掩模对齐器。它是一种通用设备，用于在基板表面沉积和对齐光掩模，并以纳米级精度精确蚀刻、图桉或形成层结构。该器件常用于微电子器件制造、表面工程、光学或光电器件制造等领域。MICROTEC Aligner装有波长为365 nm的先进光学设备。该系统由激光二极管、空间滤波器、衍射光栅和均匀照明的相位板组成。它允许广泛的曝光设置,包括1.5至15秒的曝光时间,以及小至1.5 um的可重复曝光。激光光斑尺寸可从5-60微米调整，确保在光掩模的特征内精确和可重复对准。设备直观的触摸屏控制面板使编程操作变得简单方便。KARL SUSS Aligner设计精确度和可靠性。集成的线性执行器可确保基板的精确和可重复放置,而CAD到玻璃对齐单元的对齐精度可高达5 nm。高精度M1对准机具30毫秒的快速采集时间，无接触可提供快速可靠的对准。该设备还具有强大的图像处理模块,可在几秒钟内实现自动基准对齐和质量控制。KARL SUSS/MICROTEC Aligner集成了一系列附件和选件,有助于进一步提高其准确性、速度和可靠性。它与提供用户友好界面的AutoMask等最新软件兼容。它还集成了Nano-Fiducial Control等创新技术，以提高图样精度。另外，它与各种形状的晶片、凝胶/色素聚酰亚胺、柔性基板等一系列可互换基板和真空配件兼容。MICROTEC Aligner提供卓越的性能、准确性和可靠性。其先进的光学工具、精密元件和直观的软件使其成为光掩模对准器的绝佳选择。它非常适合广泛的设备制造过程，包括微电子设备、光电子、表面工程和其他精密工程应用。