二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 #293609999 待售

MICROTEC MA 8和BA 8是用于生产半导体工业中使用的光学蒙版的蒙版对齐器，先进的光刻工具。这些遮罩对准器具有计算机控制的定位设备，能够精确对准和曝光放置在机器内部镀铬条上的感光膜。MA 8和BA 8提供快速、精确的对准,极精确的定位精度高达50 nm,可重复性高达800 nm。对齐系统允许在已知迭加坐标时使用零移位校准来注册迭加。每个遮罩对准器都配有自己的150 W紫外线卤素灯和曝光所需的其他组件，包括一个石英照明光学单元和具有最小失真和均匀照明场的准直仪。曝光控制通过自动快门机和定时曝光设置处理。安全已集成到系统中,具有防止电击和灰尘污染的功能,灯具上配有安全罩,以及用于监控暴露材料的摄像头工具。其他功能包括用户友好的触摸屏界面和图形用户界面,以便于功能导航。MA 8型号支持高达200 x 200 mm的工作平面和高达6.5级的屏蔽,而BA 8支持高达400 x 400 mm和高达24级的屏蔽。这两个系统都有实时校准电子和虚拟平场校正软件，允许提高精度和控制。系统的设计还通过使用低噪声定位资产来确保操作过程中的低振动和静音操作。这些掩模对齐器设计为易于使用,同时通过专业级组件提供可靠性和精确度。MA 8和BA 8为生产半导体工业中使用的光学掩模提供了可靠的光刻选项。